반도체 핵심 기술 중국에 유출한 삼성전자 간부에 집유…검찰, 항소 제기

검찰이 국내 반도체 관련 첨단 산업기술을 해외로 유출한 전·현직 삼성그룹 임직원들에 징역 1년 6월·집행유예 2년·벌금 1000만 원을 선고한 1심 선고에 불복했습니다.

서울중앙지검 정보기술범죄수사부는 지난달 31일 외국 경쟁업체 입사를 위해 최신 반도체 초미세 공정과 관련된 국가핵심기술 및 영업비밀 등 33개 파일을 외부에서 이를 열람하면서 사진촬영하여 부정 취득한 전직 반도체 엔지니어 40대 A씨에 내려진 1심 판결에 대해 항소를 제기했다고 밝혔습니다.

삼성그룹 계열사에서 반도체 관련 업무를 담당하던 A씨는 지난 2018년 8월 중국 반도체 컨설팅 업체로 이직을 준비하면서 삼성엔지니어링 직원들로부터 초순수 시스템 운전매뉴얼과 설계도면 등 핵심 자료를 받아 외부로 유출한 혐의를 받습니다.

삼성전자는 2006년부터 매년 300억원 이상을 투자해 해당 시스템을 개발해온 것으로 알려졌습니다.

검찰은 A씨가 해외로 유출될 경우 국가의 안전보장 및 국민경제에 막대한 피해를 줄 우려가 있는 반도체 초미세 공정기술을 부정 취득하여 사익 목적으로 활용했으면서도 재판에서 본인의 혐의를 극히 일부만 인정하면서 반성하지 아니한 점 등을 고려할 때 더 무거운 처벌을 받게 할 필요가 있다고 설명했습니다.

검찰 관계자는 항소심에서 그 죄책에 상응하는 엄정한 형이 선고될 수 있도록 공소유지에 힘쓰겠다고 밝혔습니다.

[ 박은채 기자 icecream@mbn.co.kr ]