검찰, SK하이닉스 반도체 핵심 기술 중국에 빼돌린 협력업체 임직원 구속

SK하이닉스 등이 보유한 국내 반도체 핵심 기술을 중국 업체에 빼돌린 국내 협력업체 임직원들이 구속됐습니다.

서울중앙지검 형사12부(부장검사 조상원)는 SK하이닉스의 반도체 국가핵심기술을 중국 경쟁업체에 유출한 SK하이닉스 협력업체 A사 연구소장과 영업그룹장 2명을 산업기술보호법 위반과 부정경쟁방지법 위반 혐의 등으로 구속했다고 밝혔습니다.

검찰은 앞서 지난달에는 삼성전자의 자회사인 반도체 장비업체 B사의 반도체 세정 장비 관련 첨단기술을 취득해 중국 수출용 반도체 장비 개발에 사용한 A사의 공정그룹장, 공장장 및 하청업체 대표 3명을 구속했습니다.

또, 범행에 가담한 A사 부사장 등 관계자 11명과 A사 법인도 산업기술보호법위반 혐의로 불구속 기소했습니다.

검찰은 국정원 산하 산업기밀보호센터로부터 국내 반도체 관련 핵심 기술이 중국 반도체 업체에 유출된 정황이 있다는 정보를 제공받고 수사에 착수했습니다.

검찰 수사 결과, A사는 지난 2018년부터 SK하이닉스의 HKMG 반도체 제조 기술 및 반도체 세정 레시피 등 반도체 관련 국가핵심기술과 첨단기술, 영업비밀을 중국 반도체 업체에 유출한 것으로 확인됐습니다.

HKMG는 D램 반도체의 성능을 향상시키기 위해 전도율이 높은 신소재를 사용한 최신 반도체 제조 공정 기술입니다.

A사는 SK하이닉스에 납품한 장비를 유지 보수하는 과정에서 관련 기술 정보를 몰래 취득해 이를 중국 업체에 넘긴 것으로 드러났습니다.

또 지난 2017년 3월부터 지난해 8월까지는 삼성전자 반도체 관련 자회사의 전직 직원에게 취득한 초임계 세정 장비 도면 등 첨단기술을 중국 수출용 반도체 장비를 개발하는 데 사용한 혐의도 받고 있습니다.

초임계 세정 장비는 액체 이산화탄소를 이용해 반도체 세정용 화학물질을 건조하는 최첨단 기술로, 국내 업체가 세계 최초로 개발했습니다.

다만, A사가 해당 기술을 유출해 제조한 장비는 검찰 수사 단계에서 적발돼 중국 등 국외로 유출되지는 않은 것으로 확인됐습니다.

검찰은 "중국 경쟁업체에 유출된 HKMG 기술과 반도체 세정 레시피 등은 D램 반도체 제조 공정의 핵심 기술"이라며 "이번 수사로 핵심 기술의 추가 유출을 막고, 유출된 기술을 사용해 제조한 장비의 중국 수출도 사전에 차단했다"고 설명했습니다.

그러면서 "앞으로도 기술 유출 사건 등 전문 분야의 수사 역량을 지속적으로 강화해 반도체 제조업 등 우리나라 기간 산업의 핵심 기술을 국외로 유출하는 불법행위에 엄정 대응하겠다"고 덧붙였습니다.

[ 서영수 기자 / engmath@mbn.co.kr ]