KETI-그래핀랩, 그래핀 소재 기반 EUV 펠리클 핵심공정 기술개발 맞손

↑ 장영진 KETI 원장(왼쪽)과 권용덕 그래핀랩 대표이사가 업무 협약을 체결하고 기념촬영을 하고 있다. [사진 제공 = KETI]

한국전자기술연구원(KETI)가 그래핀랩과 업무협약을 체결했다고 5일 밝혔다. 양 기관은 그래핀 기반 차세대 극자외선(EUV) 펠리클 핵심공정 기술 개발을 위해 협약을 맺었다. 그래핀은 층층이 쌓여있는 흑연의 탄소원자 층을 말한다.
KETI와 그래핀랩은 이번 협약을 통해 EUV 펠리클 핵심공정 기술 분야 공동 사업을 발굴하고 연구 협력을 진행한다. 또 산·연 EUV 펠리클 공동 연구실을 열고 2세대 펠리클 제조기술과 관련해 협력한다. 펠리클은 반도체 회로가 새겨진 포토 마스크 표면을 외부 오염으로부터 보호해주는 부품이다.
특히 공동 연구실의 경우 양 기관이 보유하고 있는 원자층증착(ALD), 화학기상증착(CVD) 장비 및 분석 설비를 공동 활용한다. 향후 양 기관은 국내 초미세 반도체 소자 양산공정의 수율을 크게 높이는 데 기여할 방침이다.
[신유경 기자]