삼성전자, 중국 시안 반도체 2기 라인 착공

삼성전자가 3D V낸드 수요 증가에 대응하기 위해 중국 시안 반도체 사업장에 2기 라인을 건설한다.
삼성전자는 28일 오전 중국 산시성 시안시에서 삼성 중국 반도체 메모리 제2 라인 기공식을 열었다고 밝혔다.
이날 기공식에는 후허핑 산시성 성위서기, 먀오웨이 공신부 부장, 류궈중 산시성 성장, 노영민 주중 한국대사, 이강국 주시안 총영사, 삼성전자 대표이사 김기남 사장 등이 참석했다.
앞서 삼성전자는 지난해 8월 시안 반도체 2기 라인 투자를 위해 산시성 정부와 업무협약(MOU)을 체결했다. 총 3년간 70억 달러를 투자하는 내용이다. 중국은 여러 대형 모바일 제조사와 IT 업체들이 있는 낸드 플래시 최대 수요처다.
김기남 사장은 기념사를 통해 "시안 2기 라인의 성공적인 운영으로 최고의 메모리 반도체 제품 생산과 함께 차별화된 솔루션을 고객에게 제공해 글로벌 IT 시장 성장에 지속적으로 기여하겠다"고 말했다.
아울러 이번 투자가 시안시를 비롯한 산시성 지역 경제 활성화와 중국 서부지역 산업에도 긍정적인 파급 효과를 줄 전망이다.
[디지털뉴스국 박진형 기자]