삼성전자 "지난해 시설투자 43조4000억원 집행"…올해 전년比감소

삼성전자는 지난해 시설투자비가 43조4000억원 규모로 집행됐다고 31일 밝혔다.
사업별 집행 투지비는 반도체 27조3000억원, 디스플레이 13조5000억원 수준이다.
반도체 부문은 늘어나는 V낸드 수요에 맞춰 평택 반도체 라인을 증설했고 파운드리 10나노 공정 캐파(CAPA· 생산능력)확대에 투자했다. 또한 플렉서블 OLED 패널 고객 수요 증가에 발 맞추기 위한 OLED 캐파 확대에 적극 투자해 지난해 전체 투자 규모는 2016년 대비 대폭 증가했다.
삼성전자 관계자는 "올해 투자 계획은 아직 확정되지 않았으나 전년 대비 감소할 것으로 예상한다"고 말했다.
[디지털뉴스국 김제이 기자]