반도체 공정 오염가스 처리 기술 개발

기존의 절반 비용으로 반도체 공정에서 배출되는 지구온난화 가스를 99% 이상 줄일 수 있는 플라즈마 공정가스 처리기술이 개발됐습니다.
한국기계연구원 플라즈마자원연구실 송영훈 박사팀은 플라즈마 발생을 위한 장치를 단순화시켜 설비 가격을 절반 이하로 낮추고, 대기로 배출되는 공정가스를 소각하는 대신 진공 플라즈마를 이용해 처리했습니다.
연구팀이 개발한 설비는 전 세계적으로 연간 3천억 원 규모인 반도체 공정가스 소각설비를 대체할 수 있을 것으로 보입니다.
송영훈 박사는 이 기술이 반도체 공정 외에도 LCD·OLED 등 디스플레이 공정의 지구온난화 가스 처리나 진공펌프 수명 연장에 적용될 가능성이 매우 크다고 밝혔습니다.

[ 김형오 / hokim@mbn.co.kr ]