3일 관련 업계에 따르면 송원산업은 지난 2008년 '연속반응공정을 이용한 감광성 고분자의 제조방법' 특허를 취득했다. 이 특허는 연속반응공정을 통해 포토레지스트의 핵심 원료인 감광성 고분자를 제조하는 방법에 관한 것이다. 기존의 뱃치(batch) 반응과는 달리 연속적으로 반응이 실시되도록 공정을 구성함으로써 항상 일정한 조성의 제품을 합성할 수 있고 많은 양을 생산하더라도 제품의 편차를 없앨 수 있다.
포토레지스트는 반도체 노광 공정에서 필름 역할을 하는 소재다. 감광성 고분자, 감광제, 용매, 첨가제 등 다양한 물질로 구성된다. 이 중 감광성 고분자는 포토레지스트 중에서 가장 많은 비율을 차지하고 있으며 포토레지스트의 성능에 가장 큰 역할을 하고 있는 핵심 재료다.
특히 감광성 고분자는 특정 파장에 대한 투명성, 내에칭(Etching)성, 기계적 물성 같은 물리화학적인 특성이 요구되는데, 이는 감광성 고분자에 사용되는 모노머의 특성, 성질, 조성 등에 의해 결정된다. 송원산업은 자체 연구를 통해 제조법을 개발, 이에 대한 특허 등록을 일찍이 마쳤다.
정부 대응도 송원산업에 힘을 싣고 있다. 지난 1일 산업통상자원부는 일본 수출 규제에 대비해 국내 생산설비 확충 및 기술개발을 통한 국산화 등을 적극 추진해왔다고 밝혔다. 특히 포토레지스트는 스미토모, 신에츠, JSR, FFEM, TOK 등 일본 기업들이 전 세
[디지털뉴스국 김경택 기자]
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